新成立的华辰微电子，位于庐州，与辰芯微（庐州）工厂一路之隔。
黄小婷同华威公司安排的副手纪年华在新年过去，迅速地拉起来了一支研发队伍。
江奕辰率先带着设计人员对EUV光刻机开展总体设计。
模拟+感应，两大S级技能同时开启。
结合此前改造光刻机曝光系统过程中，对光刻机结构的掌握，江奕辰花了一个月时间，就带队拿出了一个相对比较可行的设计图。
新型EUV光刻机设计，摆脱了阿斯麦那种激光光源轰击锡靶产生极紫外光的模式，转道选择了一种基于激光诱导气体等离子体技术。
这个技术，是江奕辰S级物理、材料，以及接连数月光电领域超强学习，触发一次万倍暴击实现了S级的光电学带来的技术质变。
更是模拟+感应两大S级技能联合作用发挥的巨大成果。
在设计过程中，江奕辰
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